Niskociśnieniowy system plazmowy V80-G PINK GmbH
Producent:
Zastosowanie:
Niskociśnieniowy system plazmowy V80-G to zaawansowane urządzenie do czyszczenia, aktywacji i trawienia w przemyśle oraz sektorze laboratoryjnym. Dzięki swojej wszechstronności, zintegrowanemu profesjonalnemu sterowaniu SPS i bogatym zestawem funkcji, V80-G staje się nieocenionym narzędziem dla różnych branż.
System V80-G jest wyposażony w port USB i interfejs Ethernet, co umożliwia szybki transfer danych i wygodne zarządzanie systemem. Ponadto, zdalna konserwacja poprzez VPN zapewnia łatwy nadzór i kontrolę z dowolnego miejsca, co pozwala na optymalne wykorzystanie zasobów i zwiększenie produktywności.
Unikalne rozmieszczenie złącza mikrofalowego od góry ułatwia manipulację próbkami, co skraca czas przygotowania i zwiększa wydajność całego procesu. Dzięki drzwiom wahadłowym, dostęp do komory reakcyjnej jest łatwy i bezproblemowy.
Opcje systemu V80-G:
- pompa próżniowa, która pozwala na osiągnięcie jeszcze wyższej jakości procesów,
- dodatkowa pułapka ozonowa pomaga w ochronie użytkowników i środowiska przed ewentualnymi niebezpieczeństwami, związanych z procesami generującymi ozon,
- V80-G może być wyposażony w maksymalnie dwa dodatkowe wloty gazu,
- dodatkowe częstotliwości wzbudzenia (40 kHz, 13,56 MHz),
- bęben obrotowy i stół obrotowy umożliwiają obróbkę materiałów sypkich i jednolite pokrywanie próbek,
- wysuwany stół ułatwia dostęp do próbek, natomiast automatyczne otwieranie drzwi sprawia, że obsługa systemu jest jeszcze bardziej wygodna i ergonomiczna,
- dzięki regałowi z półkami, można zwiększyć pojemność systemu, umożliwiając przeprowadzanie większych ilości próbek jednocześnie,
- boczne sprzężenie mikrofalowe,
- miękki start i powolne odpowietrzanie.
Uzyskaj więcej informacji na temat interesującego Cię produktu. Ściągnij materiały w formie pdf:
Niskociśnieniowy system plazmowy V80-G PINK GmbH PL (.pdf) Niskociśnieniowy system plazmowy V80-G PINK GmbH ENG (.pdf)| Parametry techniczne | |
| Wymiary systemu (szer. x gł. x wys.) | 670 x 900 x 1850 mm |
| Wymiary komory (szer. x gł. x wys.) | 400 x 460 x 430 mm |
| Częstotliwość wzbudzania plazmy | Mikrofale (2.45 GHz) |
| Moc mikrofal | 100-1200 W |
| Wloty gazu z regulatorem masowego przepływu | 2 kanały |
| Zasilanie | 230/400 V, 50/60 Hz |
| Pobór mocy (bez pompy próżniowej) | 2,2 kVA |
| Wakuometr | Pirani |
