Niskociśnieniowy system plazmowy V10-G PINK GmbH
Producent:
Zastosowanie:
Niskociśnieniowy system plazmowy V10-G to zaawansowane urządzenie wsadowe, które zostało specjalnie zaprojektowane do efektywnego usuwania fotorezystu. System ten oferuje także możliwość czyszczenia płytek. Jego zastosowanie obejmuje szereg obszarów, m.in. usuwanie warstw fotorezystu (w tym SU-8) po procesach suchych, takich jak wytrawianie RIE lub wiązką jonów, a także po procesach implantacji z dużą dawką.
System V10-G może być również wykorzystywany do czyszczenia podłoża, takiego jak płytki krzemowe przed obróbką na mokro, aby uzyskać lepszą zwilżalność i jednolite rezultaty. System znajduje zastosowanie w obszarach MEMS i nanotechnologii, a także w usuwaniu polimerów, organicznych warstw ofiarnych oraz kondycjonowaniu związków bioaktywnych.
Komora procesowa systemu V10-G wykonana jest ze szkła kwarcowego, co zapewnia wysoką jakość procesów plazmowych. Drzwi przesuwne ułatwiają dostęp do komory, a sterowanie PLC oparte na SPS (S7-300) oraz panel dotykowy z systemem operacyjnym Windows umożliwiają intuicyjną obsługę. System umożliwia zarówno automatyczną, jak i ręczną obsługę, a na wyświetlaczu można śledzić wszystkie istotne parametry procesu.
Dostęp do systemu V10-G jest kontrolowany poprzez indywidualną autoryzację użytkowników, co zapewnia bezpieczeństwo i kontrolę nad operacjami. Wszystkie procesy są archiwizowane, a zdalna konserwacja za pomocą VPN oraz interfejs Ethernet ułatwia monitorowanie i zarządzanie systemem.
System V10-G można dostosować do indywidualnych potrzeb. Istnieje np. możliwość wyposażenia w pompę próżniową i pułapkę ozonową, dodania dwóch dodatkowych wlotów gazu, czy zaworu regulacji ciśnienia procesowego, który umożliwi precyzyjne dostosowanie parametrów procesu. Dla dodatkowej ochrony i kontroli dostępna jest klatka Faradaya.
Uzyskaj więcej informacji na temat interesującego Cię produktu. Ściągnij materiały w formie pdf:
Niskociśnieniowy system plazmowy V10-G PINK GmbH PL (.pdf) Niskociśnieniowy system plazmowy V10-G PINK GmbH ENG (.pdf)| Parametry techniczne | |
| Wymiary systemu (szer. x gł. x wys.) | 720 x 820 x 820 mm |
| Wymiary komory (Ø x D) | 215 x 260 mm |
| Częstotliwość wzbudzania plazmy | Mikrofale (2.45 GHz) |
| Moc mikrofal | 50-600 W |
| Wloty gazu z regulatorem masowego przepływu | 1 kanał |
| Zasilanie | 400 V, 50/60 Hz |
| Pobór mocy (bez pompy próżniowej) | 1,5 kVA |
| Wakuometr | Pirani |
| Waga | 150 kg |